■ 中国知的財産権の最新動向
　・データなどの仮想財産紛争などが民事事件請求原因に
　・「知識財産権強国建設発展報告（2025年）」を発表
　・中国商標法改正により商標管理を強化
　・「専利審査指南」の宣伝説明会の開催
　・専利実施許諾契約の関連データ
〔 中国語の知財情報 〕（記事URL情報）
〔 最高人民法院 〕
　・知的財産権司法保護専門トピックス　専利権評価報告など
〔 国家知識産権局 〕
　・国家知識産権局　2025年11月定例記者会見
〔 ガイドライン 〕
　・非水平事業者の集中審査ガイドライン
　・GUIを含む製品デザイン専利出願ガイドライン
〔 指 南 〕
　・2025年「専利審査指南」の修正内容の解読
〔 報 告 〕
　・「標準必須特許発展報告（2025年）」（中国語版と英語版）
　・「グリーン低炭素専利統計分析報告（2025）」の発表
　・ビデオコーデック分野における
　　　　　　標準必須特許および標準提案研究報告（2025年）
〔 典型案例 〕
　・知的財産権の悪意訴訟の典型的な案件 最高人民法院
〔 行政訴訟の判例 （最高人民法院の合議法廷による判決（日本製鉄社））〕
　・専利法はクレームと明細書のゲームという感想
　・「三歩法」は進歩性判断の唯一の方式ではない
〔 無 効 〕
　・Micron社の特許に初めてYMTCが無効審判を請求
　・GaN特許をめぐる新たな係争 Innoscienceの特許が維持
〔 訴 訟 〕
　・Liイオン特許戦争が再燃　「日本の特許」が初参入
　・Sunlordが村田製作所に対して悪意訴訟を理由に提訴
　・村田製作所がドイツでMaxscend（卓胜微）を提訴
　・中国特許権侵害訴訟の提起 FASFORD TECHNOLOGY
　・結晶セルロース「セオラス™」に関する中国特許権侵害訴訟
　・HACNTがIPO期間中にKomax Groupに訴えられる
　・Xpengが欧州での特許訴訟でArcelorMittalと和解
　・光達電子が反訴　浙江索特の悪質訴訟が立案
　・レーザーレーダーチップの「第一案」がアップグレード
〔 パテントプール 〕
　・Via Licensing Allianceが初の半導体業界特許プールを発表
　・中国国内初「特許プール成熟度評価方法」団体標準が発表
〔 ライセンス 〕
　・大唐がドイツで小米に法外なライセンス料を要求
〔 売 買 〕
　・中国の杉川が100%出資　米iRobot社の特許資産を取得
■ 別紙
　－審査指南改正関連－
　　　発明者の情報の願書記載に関する弊所の対応方針
■ ざんしんないいもの辞典
　・専利民事訴訟の判決書・裁定書の収録状況
■ 中国語読解ゼミのお知らせ